1、供方保證提品符合《*共國產(chǎn)品質(zhì)量法》及相關(guān)技術(shù)標準、規(guī)范要求。
2、所供設備一年免費保修服務，在保修期內(nèi)，凡因我公司設計、安裝、制造、設備、材料、安裝、調(diào)試
等原因造成的設備損壞或是故障，均由我方予以免費維修或更換。
3、三年免費保修服務及技術(shù)支持，一年內(nèi)維修將不收取任何費用，并提供的售后服務支持。
4、實行“安全無憂”保修計劃，一年內(nèi)如有備件需要維修，無償提供服務，保證客戶正常使用設備。
5、售后服務工作制，對于客戶要求，保證在8小時以內(nèi)予以解決，如有必要。保證在8小時內(nèi)趕到用戶服務員現(xiàn)場予以服務。
6、在安裝調(diào)試過程中，貴公司需派人員跟隨我方安裝人員了解設備的性能及相關(guān)操作方式。
7、定期主動追蹤設備運行記錄，系統(tǒng)運行狀況，以便及時發(fā)現(xiàn)問題，保證系統(tǒng)長時期安全、穩(wěn)定運行。
8、以下原因造成的損壞不在保修范圍內(nèi)：不定期更換清洗耗才；不按說明書操作；超負荷工作；非質(zhì)量問題的損壞（人為、外力、自然因素等）；私自拆卸改裝設備等原因不在保修范圍內(nèi)。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過各行業(yè)的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。

反滲透工藝技術(shù)是采用膜分離的水處理技術(shù)。隨著膜科學研究和制造工藝的進步，反滲透水處理技術(shù)得到了迅速的發(fā)展。反滲透水處理技術(shù)的發(fā)展使之在所有水的淡化方式中占有地位，目前全世界范圍內(nèi)的反滲透裝置容量每天已超過1200萬/噸，20世紀90年代以來，每年仍在以20%的速度遞增。反滲透除在苦咸水、海水淡化中使用外，還廣泛用于純水制備、廢水處理及飲水、飲料和化工產(chǎn)品的濃縮、回收工藝等多種領(lǐng)域。
反滲透水處理技術(shù)基本屬于物理方法，它借助物理化學過程，在許多方面具有傳統(tǒng)的水處理方法所沒有的優(yōu)點：
·反滲透是在室溫條件下，采用無相變的物理方法使水得以淡化、純化。
·水的處理僅依靠壓力作為推動力，其能耗在許多處理方法中。
·不用大量的化學藥劑和酸、堿再生處理。
·無化學廢液及廢酸、堿排放、無廢酸、堿的中和處理過程，無環(huán)境污染。
·系統(tǒng)簡單，操作方便，產(chǎn)品水質(zhì)穩(wěn)定，可以取得較高的純水。
·適用于較大范圍的原水水質(zhì)，既適用于苦咸水、海水及污水的處理，又適用于低含鹽量的淡水處理。
·設備占地面積小，需要的空間少。
·運行維護和設備維修量極低。
反滲透用于許多純水使用部門均有明顯的優(yōu)勢，更具有常規(guī)的離子交換處理方式難以比擬的優(yōu)異，如：
·脫出水中二氧化硅效果好，除去率可達99.5%，避免了天然水中硅給離子交換樹脂帶來的再生困難、運行周期短的影響。
·脫除水中有機物及膠體物質(zhì)，脫除率可達95%。
·反滲透水處理系統(tǒng)可連續(xù)產(chǎn)水，無運行中停止再生等操作。 --反滲透設備，貴州反滲透設備，反滲透水處理設備

超純水設備顧名思義主要應用在墨水生產(chǎn)中，為了保證墨水的純度，提高墨水質(zhì)量，需要使用電阻率在16兆歐以上的水進行配置，而超純水設備采用的反滲透和EDI技術(shù)，設備的出水電阻率達到18兆歐以上，完全滿足水。
超純水設備
超純水設備
二、超純水設備典型工藝流程
1、預處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點
2、預處理-一級反滲透-二級反滲透(正電荷反滲透膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
3、預處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
4、預處理-紫外線殺菌裝置-一級RO裝置-二級RO裝置-中間水箱-EDI裝置-脫氧裝置-氮封純水箱-除TOCUV裝置-拋光混床-超濾裝置-用水點
超純水設備圖片
超純水設備圖片
三、超純水設備特點
數(shù)字化液晶水質(zhì)顯示，全自動化制水，停水或水壓不夠，系統(tǒng)自動斷電保護同時視聽報警，多重安全保護。
微電腦智能控制系統(tǒng)，RO膜防垢程序及完善的自動清洗消毒程序。
全自動化無人值守設計：缺水停水時系統(tǒng)自動停機保護，水壓恢復正常時系統(tǒng)自動恢復制水狀態(tài);純水備用時系統(tǒng)自動停機，當取用一定純水時系統(tǒng)自動恢復制水狀態(tài)。
化指示：電源指示，系統(tǒng)自檢指示，泵浦啟動指示，RO自動沖洗指示，缺水保護指示，缺水報警指示，純水備用指示。
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