1.電子工業(yè)超純水概述
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。
2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?
其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
3.電子工業(yè)超純水的應用領(lǐng)域
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水 
超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水； 
光學玻璃鍍膜、光電子及光纖 
超純材料和超純化學試劑 
汽車、家電表面拋光處理；
光電子產(chǎn)品；
其他高科技精微產(chǎn)品；
4設(shè)備特點： 
按需定制，柔性生產(chǎn) 
技術(shù)，品質(zhì)穩(wěn)定 
占地節(jié)省，維護簡易

反滲透設(shè)備是目前水處理行業(yè)中技術(shù)、應用為可靠的除鹽設(shè)備。反滲透設(shè)備的工作原理是對需要處理的原水溶液施加一個大于滲透壓的壓力，使水透過特制的半透膜，從溶液中分離出來，水分子透過反滲透膜成為純水，水中的雜質(zhì)被反滲透膜截留并被濃水帶出。因為這個過程和滲透現(xiàn)象相反，所以稱為反滲透。按各種物料的不同滲透壓，就可以對某種溶液使用大于滲透壓的反滲透方法，達到對溶液進行分離、提取、純化和濃縮的目的，它能去除濾液中的離子范圍和分子量很小的有機物，如、、熱源等。
反滲透設(shè)備特點
1、脫鹽率高達97%以上，水回收率高達75%。
2、運行費用低，故障率低。
3、具有連續(xù)制水功能。
4、反滲透設(shè)備通過PLC程序可實現(xiàn)自動運行。
5、反滲透設(shè)備操作簡單、運行平穩(wěn)、能耗低、無污染、使用壽命長。
反滲透設(shè)備清洗方法
1、低壓沖洗反滲透設(shè)備
定期對反滲透設(shè)備進行大、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當反滲透設(shè)備進水SDI突然升高超過5.5以上時，應進行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開機。
2、反滲透設(shè)備停運保護
由于生產(chǎn)的波動，反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運，短期或長期停用時必須采取保護措施，不適當?shù)靥幚頃е履ば阅芟陆登也豢苫謴汀?br/>短期保存適用于停運15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設(shè)備。實踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì)，有大量繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進出口閥門。
長期停用保護適用于停運15d以上的系統(tǒng)，這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為10(質(zhì)量分數(shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質(zhì)量分數(shù))。
3、反滲透膜化學清洗
在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢復的損傷，因此，為了恢復良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗。
一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應該改善的預處理系統(tǒng)，調(diào)整的運行參數(shù)。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運行水平，是否需要改進預處理系統(tǒng)較難判斷。

純凈水設(shè)備廠家提供的設(shè)備清洗方案
長時間停用時要將設(shè)備中蓄水排空，保證水不斷流動才能生產(chǎn)出新鮮純凈水。因此，在反滲透純凈水設(shè)備長期停用時，要盡快將蓄水箱中存水排盡，防止蓄水變質(zhì)、滋生等情況出現(xiàn)。在設(shè)備恢復使用時，也要對其進行反復清洗，保證設(shè)備干凈清潔。建議對設(shè)備進行殺菌處理，向設(shè)備中注入殺菌液，浸泡一段時間后再反復沖洗，然后就可以恢復使用。在這一過程中，要避免殺菌液殘留在設(shè)備內(nèi)。
純凈水設(shè)備報價
純凈水設(shè)備
反滲透膜是整套設(shè)備中主要的水處理配件耗材，膜清洗是整個設(shè)備清洗過程的關(guān)鍵，只有保證反滲透膜安全衛(wèi)生，才能保證反滲透膜對原水產(chǎn)生過濾效果而不是污染水源。在使用過程中，僅僅對反滲透膜進行沖洗遠遠不夠，因為簡單清洗只能將膜表面截留的大顆粒物質(zhì)去除，而不能將那些有害物質(zhì)清洗掉，因此需要殺菌液、化學清洗劑等藥劑來對反滲透膜進行清洗。由于化學藥劑會對設(shè)備造成一定傷害，不建議經(jīng)常使用。
純凈水設(shè)備報價
純凈水設(shè)備
反滲透系統(tǒng)是的核心，因此應采用正確的清洗規(guī)程對設(shè)備進行清洗，以保證設(shè)備性能的穩(wěn)定性。

1、設(shè)計原因：
A、反滲透設(shè)計為三段運行，回收率為85%，這種運行方式使進入三段的水質(zhì)含鹽量就已經(jīng)很大，所以三段濃水水質(zhì)就更差了，所以三段運行的反滲透后一段膜元件結(jié)垢傾向是比較大的。目前國內(nèi)大多數(shù)反滲透設(shè)計為二段運行，回收率75%。
B、反滲透設(shè)計設(shè)備停運后沖洗為反滲透進水進行低壓沖洗，這種運行方式?jīng)_洗時壓力為0.3~0.4MPa，在這種壓力下反滲透仍然有淡水產(chǎn)生所以濃水側(cè)的水還是被濃縮了含鹽量仍然很大，這就容易使停運的反滲透濃水側(cè)出現(xiàn)結(jié)垢現(xiàn)象。現(xiàn)在大多數(shù)的反滲透停運后沖洗設(shè)計為反滲透的產(chǎn)水或采用除鹽水進行沖洗，這種沖洗方式能夠很好的把反滲透濃水置換出來，從而保證了反滲透停運后濃水側(cè)的含鹽量很低，能夠有效地防止反滲透停運中出現(xiàn)濃水側(cè)結(jié)垢現(xiàn)象的發(fā)生。
C、加藥沒有完全混合均勻，從而導致加藥不勻，也容易引起反滲透膜結(jié)垢。
2、設(shè)備原因：
A、經(jīng)檢查發(fā)現(xiàn)阻垢劑計量泵不出藥且3臺阻垢劑計量泵均出現(xiàn)故障后進行更換過，這就容易造成阻垢劑計量泵不出藥或故障時沒有及時發(fā)現(xiàn)而使運行中的反滲透出現(xiàn)短時的不加藥現(xiàn)象。
B、反滲透加阻垢劑裝置漏藥較嚴重，可能影響反滲透加阻垢劑的加藥量。
3、操作原因：
A、停機時快速降壓沒有進行徹底沖洗。由于膜濃水側(cè)的無機鹽的濃度高于原水,易結(jié)垢而污染膜。
B、用投加化學試劑的預處理水沖洗。因含化學試劑的水在設(shè)備停運期間可能引起膜污染。因此，在準備停機時,應停止投加化學試劑,逐步降壓至3bar左右用預處理好的水沖洗10min,直至濃縮水的TDS (總?cè)芙夤腆w)與原水的TDS很接近為止。
二、如何防止反滲透膜結(jié)垢？
A、做好原水的預處理工作，特別應注意污染指數(shù)的合格，同時還應進行殺菌，防止微生物在器內(nèi)滋生，注意氯離子對膜的傷害。
B、在反滲透設(shè)備運行中，要維持合適的操作壓力，一般情況下，增加壓力會使產(chǎn)水量，但過大又會使膜壓實。
C、在反滲透設(shè)備運行中，應保持鹽水側(cè)的紊流狀態(tài)，減輕膜表面溶液的濃差極化，避免某些難溶鹽在膜表面析出。
D、在反滲透設(shè)備停運時，短期應進行加藥沖洗，長期應加保護。
E、當反滲透設(shè)備產(chǎn)水量明顯減少，表明膜結(jié)垢或污染，應進行化學清洗。
F、定期作好原水水質(zhì)分析，根據(jù)水質(zhì)情況，依據(jù)技術(shù)支持部提供的加案調(diào)節(jié)阻垢劑的加藥量。
G、當反滲透系統(tǒng)出現(xiàn)異常時，馬上停機進行處理，避免事故的擴大。
H、嚴防加藥設(shè)備的跑、冒、滴、漏，將藥液加到反滲透進水里，真正起到防止結(jié)垢的目的。
I、建議將反滲透設(shè)備停運后的沖洗方式改為用除鹽水進行沖洗。
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